Specifaj Aplikoj de Plasmaj Purigiloj

Plasma purigado/akvafortaj maŝinoj generas plasmon metante du elektrodojn en hermetika ujo por krei elektran kampon. Vakupumpilo estas uzata por konservi certan vakunivelon. Ĉar la gaso fariĝas ĉiam pli malofta, la distanco inter molekuloj kaj la libera movado de molekuloj aŭ jonoj ankaŭ pliiĝas. Sub la influo de la elektra kampo, tiuj jonoj kolizias kaj formas plasmon. Tiuj jonoj estas tre reaktivaj, kun sufiĉe da energio por rompi preskaŭ ĉiujn kemiajn ligojn, induktante kemiajn reagojn sur iu senŝirma surfaco. Malsamaj gasplasmoj havas malsamajn kemiajn trajtojn. Ekzemple, oksigena plasmo estas tre oksigena, kapabla oksigeni fotoreziston por produkti gason, tiel atingante purigan efikon. Koroda gasa plasmo havas bonegan anizotropion, kiu plenumas la postulojn de akvaforto. Plasma traktado produktas brilon, tial la nomo brila senŝargiĝo.
La mekanismo de plasmopurigado dependas ĉefe de la "aktivigo" de aktivaj partikloj en la plasmo por forigi surfacajn makulojn. Laŭ la reagmekanismo, plasmopurigado ĝenerale implikas la sekvan procezon: neorganikaj gasoj estas ekscititaj en plasmoŝtaton; gasaj substancoj estas adsorbitaj sur la solida surfaco; la adsorbitaj grupoj reagas kun molekuloj sur la solida surfaco por formi produktomolekulojn; la produktaj molekuloj malkomponiĝas en la gasfazon; kaj la reagrestaĵoj estas forigitaj de la surfaco.

La plej signifa trajto de plasma purigadteknologio estas ke ĝi povas trakti ajnan substratan tipon, inkluzive de metaloj, duonkonduktaĵoj, oksidoj, kaj la plej multaj polimeraj materialoj kiel ekzemple polipropileno, poliestero, poliimido, polivinilklorido, epoksio, kaj eĉ politetrafluoretileno. Ĝi povas purigi ambaŭ la tutan surfacon kaj specifajn areojn, same kiel kompleksajn strukturojn.